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全自動(dòng)雙腔半導體快速退火爐RTP
<p><span style="text-indent: 30px; text-wrap: wrap;">RTP-DTS-8全自動(dòng)雙腔快速退火爐是在保護氣氛下的全自動(dòng)立式快速退火系統,以紅外可見(jiàn)光加熱單片 Wafer或樣品,工藝時(shí)間短,控溫精度高,適用6寸8寸片快速熱退火制程。</span></p>
桌面型快速退火爐RTP,快速熱處理退火爐
<p><span style="text-indent: 30px; text-wrap: wrap;">RTP-Table-6桌面型快速退火爐是在保護氣氛下的桌面快速退火系統,以紅外鹵素燈管加熱,精準控制升溫,保證良好的重現性與溫度均勻性,適用6寸快速退火制程。</span></p>
半自動(dòng)半導體快速退火爐RTP
<p><span style="font-family: ">RTP-SA-12半自動(dòng)快速退火爐是在保護氣下的半自動(dòng)立式快速退火系統,以紅外可見(jiàn)光加熱單片 Wafer 或樣品,工藝時(shí)間短,控溫精度高,適用 4-12 英寸片。</span></p>
在線(xiàn)片式真空等離子清洗機PT-RF-A-12
<p>在線(xiàn)片式真空等離子清洗機主要用于半導體行業(yè)引線(xiàn)框架表面清洗產(chǎn)品表面污染物,提高表面活性,增強附著(zhù)性能。</p>
ICP干法等離子去膠機ST-3100
<p>反應速度快,反應時(shí)間短<br/></p><p><br/></p>
半導體晶圓筒式去膠機ST-3300
<p>處理過(guò)程溫度低,能在高氣壓下維持等離子體</p>
真空等離子鍍膜機
USC顯示屏干式超聲波除塵
<p>3μm塵粒97%的清除率,6μm塵粒98%的清除率<br/></p><p><br/></p>
SPA-2600大氣等離子清洗機
<p>適用于處理各種小面積、處理軌跡精度高、邊角部分多材料的表面清洗活化,搭配射流直噴槍頭<br/></p><p><br/></p>
SPA-2800大氣等離子清洗機
<p>適用于處理各種大面積、形狀較復雜材料的表面清洗活化,搭配旋轉槍頭<br/></p><p><br/></p>
SPA-3200大氣等離子清洗機
<p>搭配高效超低溫槍頭,處理溫度低于50度,等離子處理效果更明顯<br/></p><p><br/></p>
SPA-3600大氣等離子清洗機
<p>搭載進(jìn)口品牌ARM芯片,擁有等離子功率智能判斷功能<br/></p><p><br/></p>
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